MF 마그네트론 스퍼터링 코팅기

MF 마그네트론 스퍼터링 코팅기는 제품 성능과 매력을 향상시키고자 하는 산업을 위한 혁신적인 솔루션입니다. 내구성이 뛰어나고 보호력이 있으며 시각적으로 매력적인 코팅을 정밀하게 도포할 수 있어 현대 제조업에서 중요한 자산으로 자리매김하고 있습니다. 자동차, 의료, 장식, 산업 등 어떤 분야에 중점을 두든 이 장비는 우수한 결과를 달성하는 데 필요한 신뢰성과 유연성을 제공합니다.

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그리고 MF(중주파) 마그네트론 스퍼터링 코팅기 는 고정밀 물리적 기상 증착(PVD) 다양한 기판에 균일하고 접착력이 높은 박막을 생산하도록 설계된 시스템입니다. 다음과 같은 다양한 코팅 기술을 지원합니다. 아크 증발 그리고 마그네트론 스퍼터링를 사용하여 다양한 재료와 성능 요구 사항에 대한 탁월한 유연성을 제공합니다.

이 시스템은 다음과 같은 분야에서 널리 사용됩니다:

  • 장식 마감
  • 전자 제품 제조
  • 광학 부품
  • 도구 및 금형 표면 향상
  • 높은 내마모성과 내식성을 갖춘 자동차 부품

작동 방식:

MF 마그네트론 스퍼터링 공정은 중주파 전원 를 사용하여 진공 챔버에서 안정적인 플라즈마를 생성합니다.

  1. 불활성 가스 도입 - 아르곤 가스가 진공 챔버로 공급됩니다.
  2. 플라즈마 생성 - 중주파 전류는 타겟(음극)에서 플라즈마에 에너지를 공급합니다.
  3. 이온 폭격 - 양전하를 띤 아르곤 이온이 표적과 충돌하여 원자를 방출합니다.
  4. 필름 형성 - 이 원자들은 진공을 가로질러 이동하며 기판에 균일하게 증착되어 조밀하고 고품질의 박막을 형성합니다.

중주파 기술은 아크 방전을 최소화하여 절연 또는 세라믹 타겟을 높은 안정성으로 코팅하는 데 적합합니다.

PVD 코팅 공정 단계

  1. 인쇄물 준비 - 세척한 기판을 코팅 챔버에 넣습니다.
  2. 진공 펌핑 - 기계식, 루츠 및 확산 펌프(또는 옵션인 극저온 시스템)는 최대 6×10-⁴ Pa의 고진공을 생성합니다.
  3. 가스 주입 - 1~4개의 선택 가능한 경로를 통해 불활성 또는 반응성 가스의 유입을 제어할 수 있습니다.
  4. 플라즈마 점화 - MF 파워는 가스를 여기시켜 플라즈마를 형성합니다.
  5. 스퍼터링 증착 - 표적 원자가 스퍼터링되어 기판 위에 증착됩니다.
  6. 레이어 제어 - 원하는 필름 두께를 얻기 위해 시간, 전력, 가스 유량을 조정합니다.
  7. 냉각 및 언로딩 - 필름 무결성을 보존하기 위해 제어된 조건에서 냉각된 기판.

주요 애플리케이션

  • 장식용 코팅 - 보석, 시계, 욕실 설비, 건축용 하드웨어
  • 기능성 코팅 - 절삭 공구용 내마모성 레이어, 해양 하드웨어용 부식 방지 코팅
  • 전자 제품 - 칩, 디스플레이 및 회로를 위한 얇은 전도성/반도체 레이어
  • 광학 - 렌즈 및 태양광 패널용 반사 방지 필름, 거울, 보호 레이어
  • 자동차 - 트림 및 부품의 표면 성능 및 외관 개선

장점

  • 고품질 필름 - 밀착력이 뛰어난 조밀하고 균일한 레이어
  • 소재의 다양성 - 금속, 합금 및 세라믹과 호환 가능
  • 프로세스 안정성 - MF 파워로 아크 감소 및 증착 안정성 향상
  • 에너지 효율성 - 최적화된 진공 및 플라즈마 사용으로 운영 비용 절감
  • 유연한 제어 - 수동, 반자동 또는 완전 자동 PLC 제어 옵션
  • 생산 확장성 - R&D 또는 대량 생산에 적합

그리고 MF 마그네트론 스퍼터링 코팅기 는 중주파 스퍼터링의 다목적성과 다중 타겟 용량 및 정밀한 제어 시스템을 결합하여 특수 코팅 및 대규모 코팅 응용 분야에 모두 이상적입니다. 성능, 필름 품질 및 운영 효율성이 균형을 이루고 있어 산업 전반에 걸쳐 강력한 경쟁력을 보장합니다.

기술 매개변수

 

애플리케이션예제장점
안경 및 선글라스도수 렌즈, 패션 아이웨어스크래치 방지, 눈부심 방지, 장식용 색조
카메라 및 이미징 렌즈DSLR, 망원경, 현미경 광학 장치반사 방지 레이어, 내구성, 광 투과율
광학 필터컬러 필터, 레이저 보호 필터정밀한 파장 필터링, 색상 안정성
거울장식용 거울, 레이저 거울, 망원경 거울높은 반사율, 변색 방지
매개변수사양
펌프기계식 펌프 + 루츠 펌프 + 확산 펌프 + 홀딩 펌프(옵션: 극저온 펌프, 극저온 펌프 시스템)
가스 시스템1-4 경로
제한된 진공6×10-⁴ Pa(클린룸, 무부하)
타겟아크: 6-18 세트, 마그네트론: 1-2 세트
전원 공급원DC 전원 공급 장치, 중주파 전원 공급 장치, 히터 전원 공급 장치, 활성화 전원 공급 장치, 펄스 바이어스 전압 전원 공급 장치
대상 유형DC 자기 타겟, 중형 트윈 타겟, 평면 타겟
가스 시간30분 이내 5×10-⁴ Pa
제어 옵션수동, 반자동, 완전 자동, PLC

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